超猛!美國成功挑戰0.7奈米製程 EUV做不到

美國公司Zyvex 宣布推出能製作出 0.7奈米晶片的曝光機。(圖取自Zyvex 官網)

2022/09/26

圖文引用自:自由電子報

美國公司Zyvex 宣布推出世界上製造精密度最高的微影系統– ZyvexLitho1,能製作出 0.7奈米晶片,這個曝光機製造出來的晶片主要用於量子電腦。

根據美國的Zyvex 公司官網介紹,名為ZyvexLitho1 系統是基於STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束微影技術,成功製造了768皮米,也就是0.7奈米的晶片,相當於2個矽原子的寬度,是當前製造精密度最高的微影系統。

這套 EBL 系統,專門提供給量子電腦使用,雖然技術大幅領先荷商ASML EUV,因產量非常低,不可能應付市面晶片需求,亦即無法取代 EUV 地位。

STM技術發明者、伊利諾伊大學教授Joe Lyding表示,到目前為止,Zyvex實驗室的技術是最先進的,也是這種原子級精確微影技術的唯一商業化實現。

矽量子計算公司執行長Michelle Simmons 則稱,建立一個可擴展的量子電腦有許多挑戰。我們堅信,要實現量子計算的全部潛力,需要高精度的製造。我們對ZyvexLitho1感到興奮,這是第一個提供原子級精密圖案的商業化工具。

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