2026/07/29
圖文引用自：china.hket.com
美國科技媒體The Information報道，中國已開始生產自主研發的深紫外光(DUV)光刻機，這種關鍵芯片製造設備長期以來一直由荷蘭供應商ASML主導。
路透引述知情人士指，國企上海愛晟納電子技術集團正在牽頭進行生產工作，該集團吸納了來自中國頂尖光刻初創公司的團隊。
The Information報道指，初期產量將受到限制，今年約生產5部DUV光刻機，明年則增至約20台。這些設備預計將於今年交付給中國領先的芯片製造商，包括中芯國際(00981)、華虹半導體(滬：688347)和長鑫存儲。
這一突破最終可能挑戰ASML在中國市場的主導地位，但該系統在性能和可靠性方面仍存在差距，在實現量產前還需要進一步測試，因此目前這家荷蘭公司的優勢依然穩固。
據悉，中國也在研發國產極紫外光(EUV)光刻機，但目前仍處於原型機階段。
浸沒式DUV光刻機用於在矽晶圓上印製電路圖形。在相關限制使中國芯片製造商無法獲得更為複雜、適用於更先進製程的EUV光刻機後，浸沒式DUV成為中國芯片製造商目前能夠使用的最先進光刻設備。…
